Previous Page  6 / 9 Next Page
Information
Show Menu
Previous Page 6 / 9 Next Page
Page Background

Усовершенствование технологии нанесения теплозащитного покрытия…

ISSN 0236-3941. Вестник МГТУ им. Н.Э. Баумана. Сер. Машиностроение. 2016. № 5

133

Рис. 7.

Схема распылителя ПАГ-1Н:

1

— корпус распылителя;

2

— сопло;

3

— стакан с суспензией;

4

,

5

— форсунки;

6

— трубки подачи суспензии;

7

— трубка подачи воздуха;

8

— рукоятка;

9

— игольчатый вентиль;

10

— манометр;

11

— штуцер для подачи сжатого воздуха

Получение наноразмерных порошков.

В первой половине ХХ в. талант-

ливым изобретателем Н.А. Чесноковым [7] был изготовлен реактор для получе-

ния наноразмерных порошков металлов в плазменной струе низкого давления.

Технологический плазмотрон с межэлектродными вставками работал при по-

ниженном давлении на аргоне при токах 400…600 А и мощности около 200 кВт.

Анод представлял собой объемный магнитогазодинамический разряд.

Химически активные порошки, полученные в объеме анода, размером

50…500 Ǻ (5…50 нм) закаливались на выходе струями аргона и собирались в

емкости в инертной среде для дальнейшей переработки.

Модификация реактора.

Реактор Н.А. Чеснокова служит прототипом но-

вой дуговой установки, на которой можно получать теплозащитные покрытия

со столбчатой структурой в объеме полости реактора. Во-первых, пониженное

давление в реакторе обеспечивает более широкий объем плазменной струи, в

котором может быть помещена лопатка целиком и где будет конденсироваться

испаряемый оксид циркония. Во-вторых, объем реактора позволяет установить

в нем вращатель и нагреватель для лопатки, на которой будет формироваться

теплозащита. В-третьих, ламинарный поток плазменной струи низкого давле-

ния более полно соответствует условиям кристаллизации в индукторе высоко-

частотной печи и электронно-лучевого осаждения ТЗП, чем течение высокогра-

диентного температурного потока плазменной струи в ASPS-процессе.