Background Image
Previous Page  9 / 14 Next Page
Information
Show Menu
Previous Page 9 / 14 Next Page
Page Background

Рис. 4. Зависимость безразмер-

ной скорости вылета от силового

параметра

A

(

θ

= 0

,

01

):

—— —

n

= 1

; – – – —

n

= 2

;

1

ε

= 0

,

01

;

2

ε

= 1

τ

= 1

. . .

1

,

5

. Во все последующие мо-

менты времени скорость плазмы сни-

жается, так что на выходе из электрод-

ного канала скорость плазмы

e

v

к

всегда

меньше

f

v

m

. Значения скоростей плаз-

мы

e

v

к

зависят от параметра

А

, декре-

мента затухания

ε

и числа звеньев

n

формирующей линии.

При

A

1

скорость

e

v

к

лишь незна-

чительно уступает

f

v

m

(см. рис. 3), при-

чем максимум скорости имеет место в

выходной области электродного кана-

ла. Ситуация меняется при малых зна-

чениях параметра

A

0

,

3

. . .

0

,

4

(см.

рис. 3). Скорости

e

v

к

и

f

v

m

могут различаться в разы. При этом стано-

вится существенной роль источника электропитания ИПУ. Так, напри-

мер, при использовании однозвенного емкостного накопителя (

n

= 1

)

при

A

= 0

,

15

e

v

к

= 0

,

12

, а

f

v

m

= 0

,

27

. Применение

n

-звенной фор-

мирующей линии при малых

A

(

A

0

,

3

. . .

0

,

4

) позволяет уменьшить

темп снижения скорости плазмы, так что на выходе из электродного

канала скорость плазмы

e

v

к

(при

A

= 0

,

15

) может составлять: 0,12 —

для

n

= 1

, и 0,2 — для

n

2

.

Следует обратить внимания на то, что при любых

А

и

ε

применение

многозвенных (

n

= 3

и более) формирующих линий уже не приводит к

увеличению скорости плазмы на выходе из электродного канала ИПУ.

Зависимости скорости

e

v

к

от

А

представлены на рис. 4 для одно- и

двухзвенных емкостных накопителей (

ε

= var

).

При

A

1

скорость плазменного образования

e

v

к

при одинаковых

значениях параметра

А

относительно слабо зависит от числа звеньев

формирующей линии источника электропитания разряда. Видно, что

рост

e

v

к

происходит с увеличением

A

и с уменьшением декремента

затухания

ε

. Зависимость

e

v

к

от

A

с точностью

±

5

% может быть ап-

проксимирована степенной функцией

A

0

,

4

.

Выбор типа источника электропитания разряда ИПУ можно прово-

дить с использованием показателя энергетической эффективности

ϕ

n

импульсного ускорителя, связанного с кинетическим КПД преобразо-

вания запасенной в емкостном накопителе энергии

W

Σ

=

nC

0

U

0

2

/

2

в кинетическую энергию ускоренного плазменного образования

E

к

=

=

βm

0

˜

v

2

к

/

:

η

к

=

E

к

W

Σ

=

θ

˜

v

2

к

nA

=

θϕ

n

(

A, ε

)

.

(7)

Как показали расчеты, при малых значениях

θ

0

,

1

(наиболее

часто реализуемый на практике диапазон значений

θ

) можно считать,

94 ISSN 0236-3941. Вестник МГТУ им. Н.Э. Баумана. Сер. “Машиностроение”. 2015. № 4