Рис
. 7.
Изменение средней энергии
имплантируемых ионов
(
сплошная
кривая
)
и ионов лазерного факела
(
штриховая
)
под воздействием вы
-
соковольтного импульса прямоуголь
-
ной формы
; p
асчет проведен для им
-
пульса с амплитудой
40
кВ
Рис
. 8.
Расчетная динамика ионной
плотности под воздействием прямо
-
угольного импульса
,
включаемого че
-
рез
1
мкс после лазерного воздействия
Пространственные распределения ионной плотности лазерного фа
-
кела в разные моменты времени показаны на рис
. 8.
Рис
. 9
иллюстриру
-
ет динамику изменения пространственных распределений плотностей
ионов и электронов и электростатического потенциала в течение ко
-
роткого промежутка времени после подачи высоковольтного импульса
.
Мгновенное включение электрического поля приводит к повышению
потенциала самой плазмы в силу воздействия на подвижную электрон
-
ную компоненту
.
В результате энергия имплантируемых ионов может
превысить
“
номинальную
”,
т
.
е
.
задаваемую амплитудой высоковольт
-
Рис
. 9.
Распределение ионной
(
сплошная линия
)
и электронной
(
штриховая
)
плотности
,
а также потенциала электрического поля
(
нижняя кривая
)
че
-
рез
10
нс
(
а
)
и
200
нс
(
б
)
после включения высоковольтного прямоугольного
импульса
ISSN 0236-3941.
Вестник МГТУ им
.
Н
.
Э
.
Баумана
.
Сер
. “
Машиностроение
”. 2004.
№
3 35
