| 
Численное моделирование динамики нагрева порошковых материалов в технологическом микроплазмотроне
| Авторы: Дюмин М.И., Козлов Н.П., Суслов В.И. | Опубликовано: 26.01.2014 |
| Опубликовано в выпуске: #3(52)/2003 | |
| Раздел: Моделирование процессов | |
| Ключевые слова: | |
Рассмотрено новое направление в технике газотермического нанесения покрытий — микроплазменное, позволяющее преодолеть некоторые проблемы, присущие традиционному плазменному напылению. Показана возможность нанесения покрытий плазмотронами мощностью до 2... 2,5кВт при вводе порошкового материала на начальном участке дуги. Приведена упрощенная математическая модель динамики нагрева порошковых материалов в технологическом микроплазмотроне, позволяющая оценить технологические режимы напыления различных материалов. Представлены результаты численных расчетов, проведенных согласно данной модели.
