Рис. 8. Температурное поле пластины–держателя в режиме выдержки при 367 K
в момент времени 80 с
Рис. 9. Температурное поле пластины–держателя в режиме выдержки при 318 K
в момент времени 120 с
На рис. 8 показано поле температур пластины–держателя в режиме
выдержки при температуре 367 K. Неравномерность температурного
поля составляет около 1 K. Поле является симметричным, наименее
нагрет центр пластины–держателя, его температура составляет 367 K.
Также приведено температурное поле пластины–держателя (pис. 9)
при температуре 318 K. В этом случае неравномерность температур-
ного поля поверхности пластины–держателя составляет 1,5 K.
36 ISSN 0236-3941. Вестник МГТУ им. Н.Э. Баумана. Сер. “Машиностроение”. 2008. № 3
